Станок для микрообработки ультрафиолетовым лазером МЛП1-УФ

Лазерная установка для микрообработки МЛП1-УФ предназначена для резки, прошивки отверстий и структурирования в различных материалах. Технические параметры машины позволяют работать с широким спектром материалов: от стандартных материалов, таких как FR-4 и аналогичных подложек на основе смол, керамики до высокочастотных керамических композитов и материалов для гибких печатных плат, включая полиамид. Также эта лазерная машина может осуществлять высококачественную прецизионную резку и перфорацию труднообрабатываемых, фольгированных и хрупких материалов.
СВЯЖИТЕСЬ С НАМИ

    Я даю своё согласие на обработку персональных данных

    КОНТАКТНАЯ ИНФОРМАЦИЯ

    Укажите Ваши контактные данные, и наши специалисты ответят на Ваши вопросы и помогут с выбором.

    Print Friendly, PDF & Email

    Описание

    ГК «Лазеры и аппаратура» поставляет лазерные станки собственного изготовления с прецизионной кинематической системой, линейными двигателями на основании из гранита с виброгасящими опорами. Применение станков с излучением в ультрафиолетовом диапазоне МЛП1-УФ расширило круг операций и возможности обработки материалов:

    • резка и перфорация металлической фольги;
    • прошивка, разрезание, структурирование плат на основе керамики, смол, композитов, полиамида;
    • создание 3-D структур для полупроводников и диэлектриков.

    Характеристики

    • расширенная зона обработки 400х300 миллиметров;
    • возможность автоматической подстройки расстояния между подложкой и лазерным инструментом (система слежения за профилем поверхности);
    • Координатная основа на основе линейных двигателей с высокоточными линейками обратной связи;
    • повышенная точность, скорость, качество проведения технологических операций;
    • эргономичная кабина с высокой степенью защиты;
    • адаптированное к задачам микрообработки комплекса программное обеспечение;
    • сочетание высокой степени надёжности с долгим сроком эксплуатации и приемлемой ценой;

    В сравнении с лазером углекислотным и волоконным лазерное излучение УФ-диапазона (355 нм) характеризуется более высокой квантовой энергией и уменьшенным размером пятна.

    Отображение единственного товара